納米硅碳復(fù)合材料分散機(jī)，硅碳復(fù)合材料分散機(jī)，多孔納米硅碳復(fù)合材料分散機(jī)，是從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細(xì)的分散乳化，經(jīng)過高頻的循環(huán)往復(fù)，zui終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。                       

利用可聚合性單體和交聯(lián)劑作為硅的研磨介質(zhì)，對納米硅表面進(jìn)行疏水化處理，然后加入炭黑及添加劑，通過高速剪切分散將納米硅研磨液分散在聚乙烯醇的水溶液中形成O/W型乳液，通過微懸浮聚合，得到硅/高分子復(fù)合微球，把納米硅固定在高分子微球內(nèi)部，然后進(jìn)行離心分離、干燥、高溫?zé)崽幚?，得到鋰離子電池用硅碳復(fù)合負(fù)極材料

的分散效果 影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點

1 分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
                             

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，思峻公司在GRS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRX2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過200.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。

，多孔，硅碳復(fù)合材料分散機(jī)

• GMSD2000納米鐵氧體/石墨烯基電磁屏蔽涂料分散機(jī)
• SD催化劑實驗室納米分散機(jī)
• GMSD2000阻燃腈綸分散機(jī)
• GMSD2000石墨乳納米分散機(jī)
• GRF2000四級高剪切分散機(jī)
• GMSD2000光觸媒涂料研磨分散機(jī)
• GMSD2000軟團(tuán)聚納米材料高剪切分散機(jī)
• GMSD2000阻燃聚氨酯材料研磨分散機(jī)
• GMSD2000霧化石墨乳研磨分散機(jī)
• GRS2000太陽能電池敏化染料超高速分散機(jī)