您的位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 膠體磨 > 納米膠體磨
產(chǎn)品中心
SGN納米膠體磨是普通的膠體磨的速度的4-5倍以上,可達(dá)14000rpm,分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好。根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求, SGN 在GM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又開發(fā)了一款GMS2000超高速膠體磨,轉(zhuǎn)子的線速度可以達(dá)到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒徑分布更小。
更新時(shí)間:2024-07-02型號(hào):廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:3914
SGN農(nóng)藥級(jí)納米膠體磨適用于制藥、食品、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎,能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)的粉碎、乳化、均質(zhì)和混合,主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國(guó)外同類產(chǎn)品的水平。
更新時(shí)間:2024-07-03型號(hào):GM2000/4廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:1575
水解蛋白口服溶液納米膠體磨GM2000系列特別適合于膠體溶液,超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,GM在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。GM2000整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
更新時(shí)間:2024-07-02型號(hào):GM2000系列廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:1561
SGN膠體磨GM2000系列特別適合于膠體溶液、超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,GM在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。
更新時(shí)間:2024-07-02型號(hào):廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:1501
GM2000石墨烯酒精納米膠體磨整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,更好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。SGN膠體磨結(jié)構(gòu):三道磨碎區(qū):一級(jí)為粗磨碎區(qū),二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū),三層為超微磨碎區(qū)。
更新時(shí)間:2024-07-02型號(hào):廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:1418
SGN工業(yè)化納米膠體磨采用管線式結(jié)構(gòu),物料一進(jìn)一出,滿足工業(yè)化連續(xù)生產(chǎn),產(chǎn)量可達(dá)0-40t/h。并且轉(zhuǎn)速較高可達(dá)0-14000rpm,而普通工業(yè)化膠體磨轉(zhuǎn)速只有0-3000rpm,所以SGN高剪切膠體磨研磨能力更強(qiáng),效率更高。
更新時(shí)間:2024-07-02型號(hào):GM2000廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:1430
農(nóng)藥納米膠體磨,GM2000系列醫(yī)藥膠體磨,特別適合于膠體溶液、超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,GM在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。GM2000整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,更好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
更新時(shí)間:2024-07-02型號(hào):GM2000廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:1341
創(chuàng)新型納米膠體磨,上海SGN技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將SGN納米高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改進(jìn),在原來(lái)GM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改進(jìn)成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改進(jìn)型的納米膠體磨。
更新時(shí)間:2024-07-02型號(hào):GMD2000廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:1346